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Thermochemische Nanolithographie
Als thermochemische Nanolithographie (TCNL) bezeichnet man ein Verfahren der Nanolithographie, bei dem die erhitzte Sonde eines Rasterkraftmikroskops verwendet wird, um eine chemische Veränderung der Oberfläche eines Substrates zu erreichen.
Die Technik befindet sich noch in der Entwicklungsphase und es sind noch keine Produkt-Anwendungen bekannt (Stand Juni 2010). In Projektstudien konnten Strukturen kleiner als 15 nm erzeugt werden. Eine mögliche Anwendung liegt in der Erzeugung von Leiterbahnen auf Graphenoxid.
Gegenüber anderen nanolithographischen Verfahren hat diese Technik den Vorteil, dass sie sehr schnell (Geschwindigkeiten im Bereich von Millimetern pro Sekunde) ist und in verschiedenen Umgebungen eingesetzt werden kann (zum Beispiel auch in Luft oder Flüssigkeiten).
Literatur
- Szoszkiewicz et al.: "High-Speed, Sub-15 nm Feature Size Thermochemical Nanolithography"; in: Nano Lett., 2007, 7 (4), S. 1064ff
- Wang et al.: "Direct writing and characterization of poly(p-phenylene vinylene) nanostructures"; in: APPLIED PHYSICS LETTERS, 2009, 95 (23), S. 233108ff
Weblinks
Init-Quelle
Entnommen aus der:
Erster Autor: 83.77.237.13 angelegt am 25.06.2010 um 13:22,
Alle Autoren: Dirkb, Si! SWamP, Oberfoerster, Codc, 83.77.237.13
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